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SRM1976c X射線粉末衍射儀器響應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)品NIST用于校準(zhǔn) X 射線粉末衍射設(shè)備的線位置和強(qiáng)度作為 2θ 角的函數(shù)。

SRM1978重力沉降粒度分布標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)品NIST用于測(cè)量0.2~10 nm范圍內(nèi)的粒度分布

SRM 1979粒度分析用粉末衍射線輪廓標(biāo)準(zhǔn)品旨在通過粉末衍射實(shí)驗(yàn)中的輪廓展寬程度來分析微晶尺寸。

SRM1980陽(yáng)性電泳遷移率(+)µE)標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)品 旨在用于評(píng)估設(shè)備和驗(yàn)證用于測(cè)量電泳遷移率的方法。

SRM1982粒度分布氧化釔穩(wěn)定氧化鋯標(biāo)準(zhǔn)品主要用于校準(zhǔn)用于測(cè)量 10 μm 至 150 μm 范圍內(nèi)的粒度分布 (PSD) 的設(shè)備。